반응형 중국 포토레지스트1 중국의 포토레지스트(Photoresist) 자체 생산(국산화·양산) 성공 포토레지스트는 반도체 제조 공정(리소그래피)에서 웨이퍼 위에 미세 회로 패턴을 새기는 핵심 감광액입니다. 빛(노광)에 반응해 특정 부분만 용해·제거되는 화학물질로, 반도체 미세화의 ‘목줄’ 역할을 하죠. 글로벌 시장은 일본 기업(신에츠화학·도쿄오카공업·JSR 등)이 70~90%를 장악하고 있었고, 특히 고사양 제품은 공급망 위험이 컸습니다.1. 배경: 중국의 오랜 취약점과 2025년 일본 수출 제한중국은 오랫동안 포토레지스트를 일본에 90% 이상 의존했습니다. • G/I-라인(저사양, 90nm 이상): 국산화율 약 30% (가전·자동차용). • KrF(중사양, 90~130nm): 국산화 초기 단계. • ArF(고사양, 65~28nm): 일본 의존도 98% 이상. • EUV(초고사양, 7nm 이하): 10.. 2026. 5. 22. 이전 1 다음 반응형
